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蘇伊士EDI常見問題及應(yīng)對措施
2020-11-20 15:57:05 來源:蘇伊士EDI常見問題及應(yīng)對措施1氧化 問題來源:1、原水自帶的氧化性物質(zhì),2、預(yù)處理殺菌投加的氧化劑或紫外燈運行產(chǎn)生的氧化性物質(zhì)
特征:氧化會導(dǎo)致樹脂破碎堵塞流道,使系統(tǒng)出力逐漸下降(壓差上升或流量下降),且化學(xué)清洗無效,可能會使產(chǎn)水水質(zhì)下降,過程時間較長。
措施:一級RO進水處投加還原劑,控制進水ORP≤200mv為宜。EDI進水側(cè)不能安裝紫外線殺菌裝置。
平時需做好數(shù)據(jù)記錄,如發(fā)現(xiàn)性能持續(xù)下降應(yīng)及時處理或反饋(因為儀表有準(zhǔn)度問題,不能完全依賴ORP)。
2缺水燒毀 問題來源:EDI通過電來遷移離子,其過程會產(chǎn)生一定的熱量,如缺水通電會導(dǎo)致模塊局部過熱燒毀
特征:EDI電流電壓明顯異常或無法上電,通常水質(zhì)會下降,過程時間很短。
措施:避免EDI在缺水情況下通電,淡水、濃水、極水都應(yīng)設(shè)置流量保護及報警,沒有設(shè)置自動保護的則需要人工做好閥門檢查及流量確認。
PS:不合格產(chǎn)排管道需與產(chǎn)水一樣受調(diào)節(jié)閥控制流量,否則產(chǎn)排時可能導(dǎo)致濃水與極水流量下降造成隱患。
3模塊污堵 ①結(jié)垢或有機物污堵
問題來源:進水水質(zhì)波動,RO膜脫鹽率下降或未采用二級RO工藝;長期停機細菌滋生
特征:會逐漸使模塊出力降低,很可能使產(chǎn)水水質(zhì)下降,通常化學(xué)清洗有效
措施:及時進行化學(xué)清洗,定期分析進水水質(zhì)及RO膜是否需要更換;長期停機應(yīng)定期通新鮮水防止長菌。
PS:判斷EDI系統(tǒng)是否污堵需從壓力及流量兩方面綜合考慮,例如產(chǎn)水恒流系統(tǒng)中流量雖無變化,壓差及進水壓力明顯上升即提示污堵
②進水側(cè)物理污堵
問題來源:新系統(tǒng)安裝前未對進水管路沖洗
特征:投運后短時間內(nèi)EDI出力下降,產(chǎn)水水質(zhì)通常無明顯下降
措施:對問題模塊進行反沖洗,反沖洗壓力不宜高于0.2MPa,沖洗水水質(zhì)需滿足EDI進水要求
4進水水質(zhì)、系統(tǒng)出力、電流電壓正常,產(chǎn)水水質(zhì)不達標(biāo) ①正負極接反
特征:接反的模塊通電后產(chǎn)水電導(dǎo)比進水電導(dǎo)高很多,不通電產(chǎn)水水質(zhì)反而更好,電流電壓顯示正常。
措施:檢測電源正負極,調(diào)整接線
電源接頭接線方式:1地 2正 3負
②壓力設(shè)置不合理
E-CELL模塊在調(diào)試時需要設(shè)置濃水進比淡水出壓力低0.35-0.7bar,以實現(xiàn)全過程淡水壓力>濃水壓力
無法設(shè)置的情況:濃水管徑太小或水泵揚程太低,為保證濃水流量而無法降低濃水進水壓力至合適值。
措施:推薦EDI淡水進水壓力要達到4bar,并選擇適宜的管徑
③二氧化碳的影響
EDI進水PH需7-7.5,如偏酸可能會有少量二氧化碳氣體無法去除,經(jīng)過EDI后會生成碳酸氫根離子影響水質(zhì)。
措施:二級RO加堿將PH提升至8-9,二氧化碳反應(yīng)成為離子從而被RO膜及EDI去除
PS:二氧化碳是相對易溶的氣體,雨水在下落過程中會吸收二氧化碳至PH≈5.6,因此在一級RO產(chǎn)水加裝除碳器可能效果并不理想。
④需加強電流再生
EDI經(jīng)過清洗、長期停機或者一段時間通水不通電運行后都可能需要加強電流再生
措施:保證好流量正常的情況下將電流提高至3-4A運行,水質(zhì)恢復(fù)后再逐漸降低電流
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